《中国画院志》第二次编撰工作会议的召开，旨在通过专家论证，统一思想、深入推进、全面铺开，通过全国上百家官方画院共同努力，让《中国画院志》客观、公正、详实地为业界的正本清源做出积极贡献，同时也是向中华人民共和国70周年庆典献上一份文化大礼。

自2010年开始，浙江画院以《中国画画刊》为平台与各大画院进行联络沟通，历经七年多，介绍了全国近四十家画院的基本情况，逐渐理清国办画院当今的存在状况。这期间，浙江画院还两次邀请全国画院院长进行大规模的学术讨论，积累了相当部分材料。以此为基础，浙江画院于2015年正式提出编撰中国第一部《中国画院志》的决定。2016年5月5日，《中国画院志》首次编撰工作座谈会在杭州召开，会上，代表们就如何保证编撰内容的丰富、客观、真实及其历史价值展开了热烈的讨论，并对《中国画院志》的内容、体量、规格以及入围条件等提出了自己的建议和意见。《中国画院志》也于当年被列入浙江省文化精品工程重大项目。

据浙江画院院长孙永介绍，首次编撰会议的座谈沟通，经过一年多时间的互动、沟通、联络与资料收集工作，已有近百家的画院参与其中，截至目前为止，有近五十家画院的一手相关资料已经到位。《中国画院志》将于2019年正式出版，届时还将举办新书首发式及国际论坛等系列活动。

9月26日，《中国画院志》第二次编撰工作会议在杭州浙江展览馆召开。来自全国范围内主要省市地区的近五十家画院代表、志史专家和全国媒体共同参加此次会议。

(责任编辑：武汉三度艺术机构)